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| 參數組合 | 表面效果 | 潛在問題 |
|---|---|---|
| ??高速度 + 高壓力?? | 材料去除快，效率較高 | 表面過熱、變形、劃痕不均、可能損壞樣品 |
| ??高速度 + 低壓力?? | 去除效率一般，但較溫和 | 可能磨拋不充分，耗時較長 |
| ??低速度 + 高壓力?? | 去除作用集中但易不均勻 | 局部過拋、變形、不均勻損傷 |
| ??低速度 + 低壓力?? | 去除效率低，磨拋溫和 | 效率低，難以有效去劃痕 |
| 磨拋階段 | 目的 | 推薦速度（RPM） | 推薦壓力（N/kgf） | 備注 |
|---|---|---|---|---|
| ??粗磨?? | 快速去除切割痕跡，平整表面 | 150~300 | 較高（10~30 N / 1~3 kgf） | 使用粗粒度砂紙（如180~800目） |
| ??細磨?? | 去除粗磨劃痕，獲得平整無痕基底 | 200~400 | 中等（5~15 N / 0.5~1.5 kgf） | 使用細粒度砂紙（如1200~4000目） |
| ??粗拋光?? | 去除細磨劃痕，初步光亮表面 | 150~300 | 低至中（3~10 N / 0.3~1 kgf） | 使用拋光布 + 粗拋磨料（如金剛石、氧化鋁） |
| ??精拋光?? | 獲得無劃痕、鏡面狀表面，適合金相觀察 | 100~250 | 低（1~5 N / 0.1~0.5 kgf） | 使用細拋磨料（如膠體氧化硅、氧化鉻） |
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